靶材是制备薄膜的主要材料之一，比如镀膜靶材，通过磁控溅射在适当的工艺条件下，溅射在基体上形成各种所需功能薄膜的溅射源，简单来说靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料，通过更换不同的靶材得到不同的膜系，根据镀膜工艺不同，对靶材种类选择不同，属于电镀材料的一种。磁控溅射技术优势突出，推动溅射靶材需求不断提升，溅射靶材已成为目前市场应用量 PVD 镀膜材料。
