靶材是制備薄膜的主要材料之一，比如鍍膜靶材，通過磁控濺射在適當的工藝條件下，濺射在基體上形成各種所需功能薄膜的濺射源，簡單來說靶材是高速荷能粒子轟擊的目標材料，通過更換不同的靶材得到不同的膜系，根據鍍膜工藝不同，對靶材種類選擇不同，屬於電鍍材料的一種。磁控濺射技術優勢突出，推動濺射靶材需求不斷提升，濺射靶材已成為目前市場應用量 PVD 鍍膜材料。
